Id-dar - Għarfien - Id-dettalji

Kif iż-Żieda ta '0.5% Ipofosfit tas-Sodju (NaH₂PO₂) għal Banju tal-Plating tal-Klorur tan-Nikil ta' 5% f'70 grad Tibdel ir-Rata ta 'Deposizzjoni tan-Nikil Elettroless fuq Tubu tat-Titanju Heater u r-Riskju ta' Pitting Galvaniku?

L-ipofosfit tas-sodju (NaH2PO2) huwa aġent li jnaqqas f'banju tal-kisi elettroless ta' klorur tan-nikil ta' 5% f'70 grad. Iż-żieda ta '0.5% ipofosfit. Tinbeda d-depożizzjoni tan-nikil fuq it-tubu tal-heater tat-titanju. In-nikil depożitat huwa katodiku mat-titanju u għalhekk jifforma koppja galvanika. Id-densità tal-kurrent galvaniku hija 10-50 µA/cm 2 u twassal għal pitting tat-titanju wara d-depożiti tan-nikil b'rati ta '0.2-1.0 mm/sena. Ir-rata ta 'depożizzjoni tan-nikil hija 5-15 µm/h u l-ħin tad-depożizzjoni jżid ir-riskju ta' pitting.

Il-Mekkaniżmu ta' Ipofosfit-Pitting Galvaniku Indott u Depożizzjoni tan-Nikil

The hypophosphite lowers nickel ions at the titanium surface Ni2+ + 2H2PO2- + 2H2O ->Ni0 + 2H2PO3- + H2 + 2H+. Id-depożitu tan-nikil huwa katodiku u permeabbli. It-titanju taħtu jsir anodiku u jissaddad. Il-korrużjoni hija limitata għal toqob u truf, li jiffurmaw ħofor. Ir-rata ta' pitting tobdi l-liġi ta' Faraday, jiġifieri fond tal-ħofra ∝ densità tal-kurrent galvaniku × ħin.

Depożizzjoni tan-nikil u pitting tat-titanju bħala funzjoni tal-konċentrazzjoni ta 'ipofosfit

Testijiet ikkontrollati tat-titanju tal-Grad 2 f'5% NiCl2 f'70 grad C b'NaH2PO2 varjat urew li: L-ebda depożiti tan-nikil, l-ebda kurrent galvaniku, l-ebda pitting f'0% ipofosfit . 2-5 µm/h, kurrent galvaniku 5-15 µA/cm2 u fond tal-ħofra wara 100 µm20-50 µ1 % phosphite. F'0.25% ir-rata ta 'depożizzjoni hija 5-10 µm/h, il-kurrent galvaniku huwa 10-30 µA/cm 2 u l-fond tal-fossa huwa 50-100 µm. Ir-rata ta 'depożizzjoni hija 10-20 µm/h f'0.5%, il-kurrent galvaniku huwa 20-50 µA/cm2, u l-fond tal-fossa huwa 100-200 µm. Ir-rata ta' depożizzjoni hija 15-25 µm/h f'1.0%. Il-kurrent galvaniku huwa 30-80 µA/cm 2 . Il-fond tal-fossa huwa aktar minn 200 µm.

Gwida tal-Mitigazzjoni tal-Pitting Galvaniku

Konċentrazzjoni ta' Hypophospite (%) Rata ta' Depożizzjoni tan-Nikil (µm/h) Kurrent Galvaniku (uA/cm2) Rata ta' Pitting tat-Titanju (mm/sena) Azzjoni Rakkomandata<0.1 <5 <15 <0.2 Acceptable 0.1-0.25 5-10 15-30 0.2-0.5 Monitor 0.25-0.5 10-20 30-50 0.5-1.0 Use Grade 7 >0.5 >20 >50 >1.0 Mhux rakkomandat
Nagħmlu Speċifikazzjoni-Edukata Tajjeb

Ħiter tat-titanju f'banju tal-kisi tan-nikil, ipofosfit-imnaqqas: Imminimizza l-ħin tal-espożizzjoni jew uża heater miksi b'PTFE. L-inġinier ma jiddepożitax nikil, u jipprevjeni t-tqattigħ galvaniku.

 

Ibgħat l-inkjesta

Tista 'Tħobb ukoll