Sputtering reattiv għal tubi tat-tisħin elettriku tal-kisi bil-vakwu huwa użat ħafna biex jiddepożita films komposti

Sputtering reattiv għal tubi tat-tisħin elettriku tal-kisi bil-vakwu huwa użat ħafna biex jiddepożita films komposti

 

L-iżvilupp ta 'inġinerija moderna tal-wiċċ jeħtieġ dejjem aktar l-użu ta' films komposti varji, u t-teknoloġija ta 'sputtering ta' magnetron reattiv hija waħda mill-modi ewlenin biex jiġu depożitati films komposti. Biex tiddepożita films komposti b'komponenti multipli, il-materjal fil-mira magħmul minn materjali komposti jista 'jintuża għal depożizzjoni sputtering, jew meta sputtering ta' metall pur jew miri ta 'liga, ċertu gass reattiv, bħal ossiġnu u nitroġenu, jista' jiġi introdott biex jirreaġixxi u jiddepożita kompost films. Dan jissejjaħ sputtering reattiv. Normalment miri tal-metall pur u gassijiet reattivi huma faċli biex tinkiseb purità għolja, għalhekk sputtering reattiv huwa użat ħafna biex jiddepożita films komposti.

Vantaġġi tal-vacuum electroplating kisi tal-jone tat-tubu tat-tisħin elettriku

 

vantaġġ

 

rata għolja ta 'depożizzjoni

 

film dens

 

Diffrattività tajba, kapaċità qawwija li tkopri uċuħ kumplessi

 

Vantaġġi u żvantaġġi ta 'sputtering reattiv għal tubi ta' tisħin bl-elettriku tal-electroplating bil-vakwu

 

(1) Reazzjoni Il-materjal fil-mira (mira b'element wieħed jew mira b'ħafna elementi) u gass reattiv (ossiġnu, nitroġenu, idrokarburi, eċċ.) Użati fil-magnetron sputtering huma ta 'purità għolja, li twassal għall-preparazzjoni ta' purità għolja films komposti.

 

(2) Billi jiġu aġġustati l-parametri tal-proċess fl-isputtering tal-magnetron reattiv, jistgħu jiġu ppreparati films komposti stojkjometriċi jew mhux stojkjometriċi, u l-proprjetajiet tal-film jistgħu jiġu rregolati billi tiġi aġġustata l-kompożizzjoni tal-film.

 

(3) Matul il-proċess ta 'depożizzjoni ta' magnetron sputtering reattiv, it-temperatura tas-sottostrat hija relattivament żgħira, u s-sottostrat normalment mhux meħtieġ li jissaħħan f'temperatura għolja matul il-proċess tal-iffurmar tal-film, għalhekk hemm inqas restrizzjonijiet fuq il-materjal tas-sottostrat.

 

(4) Magnetron sputtering reattiv huwa adattat għall-preparazzjoni ta 'films irqaq uniformi ta' żona kbira, u jista 'jirrealizza l-produzzjoni industrijalizzata ta' produzzjoni annwali b'magna waħda ta 'miljuni ta' metri kwadri ta 'kisi.

 

nuqqas

 

Suxxettibbli għall-avvelenament fil-mira, l-għajbien tal-anodi u problemi oħra

www.superbheater.com