Kisi bil-vakwu li juża partiċelli newtrali biex jifforma films
Ħalli messaġġ
Kisi bil-vakwu li juża partiċelli newtrali biex jifforma films
Il-kisi għandu ebusija għolja u reżistenza għall-ilbies. Jekk tintuża f'għodda, tista 'ttejjeb b'mod effettiv il-veloċità tat-tqattigħ u l-ħajja tas-servizz tal-għodda, u tista' wkoll ittejjeb il-proċess tat-tqattigħ u ttejjeb l-eżattezza tal-magni. Aktar tard, ġie żviluppat gradwalment f'film kontra l-korrużjoni, film super iebes u l-bqija. Il-film TiN miksi bil-jone huwa isfar dehbi u ntuża fil-kisi bil-vakwu ta 'arloġġi, kartolerija, oġġetti tal-mejda, eċċ. Mhux biss jidher sabiħ, iżda jirreżisti wkoll il-korrużjoni u s-sħana.
Taħt ċirkostanzi normali, is-saff tal-kisi tal-kisi tal-jone huwa rqiq ħafna, sabiex il-wiċċ tal-oġġett sprejjat juri punti ewlenin spekulari bħal kromju, nikil, deheb u gradjenti varji tal-kulur. Evaporazzjoni bil-vakwu u kisi sputtering L-evaporazzjoni tradizzjonali u l-kisi sputtering jużaw prinċipalment partiċelli newtrali biex jiffurmaw films, u l-veloċità tal-partiċelli tal-film li jilħqu s-sottostrat hija baxxa, li tirriżulta fi problemi bħal rata baxxa ta 'depożizzjoni u adeżjoni ħażina tal-film. , il-film mhuwiex dens u problemi oħra, u l-kisi tal-jone jista 'jsolvi l-problemi ta' hawn fuq tajjeb ħafna.
Adeżjoni qawwija tal-film tal-kisi bil-vakwu
Is-saff tal-film għandu forza qawwija ta 'twaħħil. Matul il-proċess tal-kisi bil-vakwu, xi elettroni jolqtu l-wiċċ tas-sottostrat, jattivaw l-atomi tal-wiċċ, u jipproduċu effett ta 'tindif, u l-enerġija miksuba mill-sputtering tal-materjal tal-kisi hija ogħla minn dik miksuba bl-evaporazzjoni. 1 sa 2 ordnijiet ta 'kobor, meta l-atomi tal-kisi b'enerġija daqshekk għolja jolqtu l-wiċċ tas-sottostrat, hemm aktar enerġija li tista' tiġi trasferita lis-sottostrat, li tiġġenera aktar enerġija termali, tħaffef il-moviment tal-atomi attivati mill-elettroni, u Parti mill-atomi tal-materjal tal-kisi huma mdewba ma 'xulxin qabel, u atomi oħra tal-materjal tal-kisi huma depożitati wieħed wara l-ieħor biex jiffurmaw film, li ssaħħaħ il-forza tat-twaħħil bejn is-saff tal-film u s-sottostrat.
Firxa wiesgħa ta 'materjali tal-kisi, minħabba li l-kisi sputtering huwa sputtered mill-bumbardament ta' veloċità għolja ta 'jonji ta' argon, ovvjament, il-ħxuna hija fil-medda permissibbli, u l-kurrent huwa kkontrollat tajjeb, ma jimpurtax kemm-il darba l-kisi jiġi ripetut , il-ħxuna tal-film hija L-ebda bidla, l-istabbiltà tal-ħxuna tal-film tista 'tiġi attribwita għall-kontrollabbiltà tajba u r-ripetibbiltà tal-ħxuna tal-film.
www.superbheater.com
